Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb].

Mohd Yusoff, Mohd Zaki (2008) Kesan Rawatan Kriogenik Terhadap Struktur Antaramuka Ni/Si Dalam Peranti Silikon Sebagai Pengesan Foto [QC373.P9 Z21 2008 f rb]. Masters thesis, Universiti Sains Malaysia.

[img]
Preview
PDF
Download (402Kb) | Preview

    Abstract

    Projek ini mengkaji kesan rawatan kriogenik terhadap struktur antaramuka Ni/Si dalam silikon sebagai pengesan foto. This project studied the effects of cryogenic treatment on Ni/Si interface in silicon device as a photodetector.

    Item Type: Thesis (Masters)
    Subjects: Q Science > QC Physics > QC350-467 Optics. Light
    Divisions: Pusat Pengajian Sains Fizik (School of Physics)
    Depositing User: MHAH Hazlee Abdul Halil
    Date Deposited: 11 Apr 2009 10:31
    Last Modified: 13 Jul 2013 12:01
    URI: http://eprints.usm.my/id/eprint/8960

    Actions (login required)

    View Item
    Share