PA-MBE GaN-BASED OPTOELECTRONICS ON SILICON SUBSTRATES[QC1].

Abstract

Dalam penyelidikan ini, epitaksi alur molekul berbantukan plasma nitrogen frekuensi radio (RF) digunakan untuk menumbuhkan bahan galium nitrid (GaN) di atas substrat Si(111) dengan penggunaan aluminium nitrid (AlN) yang ditumbuhkan pada suhu tinggi sebagai lapisan penimbal. In this project, radio-frequency (RF) nitrogen plasma-assisted molecular beam epitaxy (PA-MBE) technique was used to grow GaN-based layers on Si(111) substrate using high temperature grown AlN as buffer layer.